한국기술벤처재단

기술지원

규모 관련 사항
총 공사 투입비	81.6억원 설계비 : 2.4억원 (삼성 엔지니어링 + 배가 건축사무소) 공사비 : 75.6억원 (대우건설 + 정일 E&C) 감리비 : 3.6억원 (엘지 E&C)
공사기간	1995. 12. 29 ~ 1997. 07. 31 (19개월)
건물구조	지하 1층 지상4층, 철근콘크리트
면적개요	건축면적 : 574평 연면적 : 2,013 평(Clean Room 150평, 실험실 533평, 기타 1,330평) 청정도 :Class 10 17평 Class 100 33평 Class 1000 100평
주요시설 개요	수직층류 Fan Filter Unit (348대), 필요에 따라 Up-Grade 가능 Clean Dry Air (324 N m3/HRx 2대, P.D.P - 70도) NitroGen Gas (168 N m3/HR, 액체 질소탱크 14.1 ton) Process Cooling Water (Recirculation 24 m3/HR) Exhaust Gas Treatment (세정탑 8,000MH 1대, 흡착탑 8,000 CMH 1Set) Power Supply 2,750 KVA (380/220V, 208/120V) Air Compressor(380 N m3/HR, 2대) Air Shower (1인용 4대, 2인용 2대) 중앙 Control System (각종장비 상태감시 및 제어기능) Boiler (1.5ton/HR 3대), Chiller (2000USRT 3대) 33대분의 주차시설

1997년 7월 연면적 2,013평 규모 (지하 1층, 지상 4층) 청정연구동 설립
LPCVD, Aligner, PECVD/RIE 등 신규 장비를 설치하여 1998년 부터 부분적 개방
2000년 과학기술부 21세기 프론티어사업 “지능형마이크로시스템개발사업” 출범과 더불어 10년간 MEMS/NANO 연구에 필요한 관련 장비 단계적 구축
2010년 4월부터한국 기술 벤처재단에서 통합운영